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臺(tái)式場發(fā)射掃描電鏡的應(yīng)用場景有哪些?

 更新時(shí)間:2025-04-27 點(diǎn)擊量:101
臺(tái)式場發(fā)射掃描電鏡是結(jié)合場發(fā)射電子源與緊湊設(shè)計(jì)的分析工具,兼具高分辨率成像、多模式分析和易用性,適用于材料科學(xué)、生命科學(xué)及工業(yè)檢測等領(lǐng)域。

本公司提供的Phenom Pharos 飛納臺(tái)式場發(fā)射電鏡采用熱場發(fā)射電子源,信噪比高,使用壽命長,保證長期穩(wěn)定的性能。臺(tái)式場發(fā)射電鏡能譜一體機(jī)標(biāo)配背散射電子成像、二次電子電子成像和能譜分析功能,可對各種樣品進(jìn)行高分辨成像及元素分析

應(yīng)用場景:

1、材料科學(xué)研究

納米材料:表征量子點(diǎn)、二維材料的層數(shù)、缺陷及界面結(jié)構(gòu)。

能源材料:分析鋰離子電池電極材料的晶格畸變、顆粒團(tuán)聚及SEI膜形成機(jī)制。

催化材料:研究負(fù)載型催化劑的活性位點(diǎn)分布及載體-活性組分相互作用。

2、生命科學(xué)與醫(yī)學(xué)

病毒與細(xì)胞研究:解析病毒衣殼蛋白結(jié)構(gòu)、細(xì)胞器超微結(jié)構(gòu)及藥物載體分布。

組織工程:觀察支架材料的孔隙結(jié)構(gòu)、細(xì)胞黏附行為及組織再生過程。

3、半導(dǎo)體與微電子

芯片失效分析:定位晶圓缺陷、金屬互連層空洞及柵氧化層擊穿點(diǎn)。

納米器件表征:研究憶阻器、二維晶體管等器件的界面態(tài)密度及載流子輸運(yùn)通道。

4、工業(yè)檢測與質(zhì)量控制

金屬加工:檢測焊接接頭微觀缺陷、涂層厚度及均勻性。

塑料制品:分析注塑件表面粗糙度、纖維取向及填充物分布。

涂料行業(yè):評估涂層致密性、孔隙率及防腐性能。

傳真:

郵箱:info@phenom-china.com

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